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  • RTP4-1200型全温区快速退火炉
    RTP4-1200型全温区快速退火炉

    RTP4-1200型快速退火炉快速热处理退火炉简称 RTP(Rapid Thermal Processing Furnace),在吸收了生产制造工艺的基础上自主研发了该款产品。该设备不但拥有极快的升温速率200℃/S,而且在烧结工艺运行完结,直接将试样在高温区取出。实现物理状态下的最快降温。我们的工程师们巧妙地利用了冷壁工艺,在绿色节能环保的基础上真正的实现了试样的极速升降温.多重保护功能,过温报

    更新时间:2024-12-05型号:浏览量:34
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  • HTR-4立式4寸快速退火炉
    HTR-4立式4寸快速退火炉

    HTR-4立式4寸快速退火炉(芯片热处理设备)广泛应用在IC晶圆、LED晶圆、MEMS、化合物半导体和功率器件等多种芯片产品的生产,和欧姆接触快速合金、离子注入退火、氧化物生长、消除应力和致密化等工艺当中,通过快速热处理以改善晶体结构和光电性能,技术指标高、工艺复杂、专用性强。

    更新时间:2024-11-06型号:浏览量:773
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  • HTR-01 桌式4英寸快速退火炉
    HTR-01 桌式4英寸快速退火炉

    HTR-01A快速退火炉系列采用红外辐射加热技术,可实现1-10片样品同时进行,可实现4寸晶圆片吋样品快速升温和降温,同时搭配超高精度温度控制系统,可达到的温场均匀性,对材料的快速热处理(RTP)、快速退火(RTA)、快速热氮化(RTN)、快速热氧化(RTO)及金属合金化等研究和生产起到重要作用。 主要应用领域: 快速热处理(RTP),快速退火(RTA),快速热氧化(RTO),快速热氮化(RT

    更新时间:2024-11-06型号:浏览量:782
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