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2017-07-25
+2018-07-11
+2018-02-23
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JKWDR-200型科研级温等静压机是一款技术成熟的温等静压机产品，高压腔采用性能优良的3Cr13 不锈钢锻件并探伤，设计数据参数，再用电脑辅助设计软件进行模拟受力分析校验，理论数据结合经验数据敲定最终设计方案。确保设计的科学、合理、准确； 是高等院校，研究机构和生产单位的重要设备。
PVDF（聚偏二氟乙烯）薄膜的极化处理是赋予其压电、铁电等功能特性的关键步骤，极化装置的设计需满足高压电场、温度控制等条件，以促使薄膜内部偶极子定向排列。以下是 PVDF 薄膜极化装置的核心组成、工作原理及关键参数的详细说明：
JKZC-ST200型小型金刚石线切割机专为材料研究人员设计，用于脆性材料分析样品的精密切割，例如晶体、陶瓷、玻璃、耐火材料、岩样、矿样、建筑材料、金属、塑料、PCB 等， 尤其适合于超薄样品的精密切割，最薄的样品厚度可以达到 0.1 毫米。产品已经通过 CE 认证，远销世界各地的研究院所、大专院校、大企业的研究部门以及与材料分析有关的广大中小企业。
小型程控蒸发镀膜仪JKZC-DM1700是一款小型台式程序控温蒸发镀膜仪，可以设定程序，精确控制温度200℃～1500℃（或者1200℃～1700℃），样品台可旋转以获得更均匀的薄膜，可制备各种金属薄膜和有机物薄膜。
JKZC-YP200型32工多路压片机是一款针对于同时压制32个样品和对32个样品进行退模，大大提高了实验效率。用特定的模具可以压制成各种各样的片,柱及异型体,组合体等进行科学研究，应用非常广泛,使用简单、方便、可靠。目前是国内高等院校进行自行科学制样研究的重要辅助工具。
JKZC-STC600高 真空双靶磁控溅射仪是我公司自主新研制开发的一款高真空镀膜设备，可用于制备单层或多层铁电薄 膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄 膜等。JKZC-STC600 双靶磁控溅射仪配备有两个靶枪和两个电源，一个射频电源用于非导电材料的溅射镀膜，一个直流电源用于导电材料的溅射镀膜，可选配强磁靶用于铁磁性材料的溅射镀膜。
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